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Dummy / 机械片

用于炉管填充、机台调试、热均匀性控制与搬运认证的非生产用片:规格最宽松、单片成本最低,可选氧化膜或氮化膜延长热循环寿命。

产品介绍

Dummy / 机械片(Dummy / Mechanical Wafer)是晶圆等级中成本最低的非生产用硅片,规格要求最宽松,仅用于在工艺设备中提供物理占位与热学 / 力学存在,不承担电学或表面质量要求。

这类片子通常由无法满足正片或测试片要求的 CZ 硅晶棒段(如晶棒尾部、锥端、电阻率偏离材料),或正片检验中因外观、尺寸落选的片子改制而成,避免材料直接报废或回炉。用其填充炉管、调试机台,相比消耗正片可显著降低成本,较同规格正片低约 70–90%。我们提供 100–300mm 全直径,表面从研磨哑光面到单面抛光可选;还可提供 100nm–2μm 热氧化膜选项,通过多次热循环保护硅表面、减少麻点与污染吸附,LPCVD 氮化膜则可在高温氧化或含氯气氛中提供额外保护。

核心特性

  • 非生产用途,规格最宽松,仅要求物理占位与热学 / 力学存在;
  • 成本较同规格正片低约 70–90%;
  • 直径 100 / 125 / 150 / 200 / 300mm 全系列;
  • 表面:研磨哑光 / 刻蚀 / 单面抛光可选;
  • 可选 100nm–2μm 热氧化膜,经受多次热循环;
  • 可选 100 / 200nm LPCVD 氮化膜,适应含氯高温气氛。
用于炉管填充与机台调试的机械级硅片

Dummy / 机械片:成本最低的非生产用片

应用场景

炉管填充与热均匀

扩散 / LPCVD 炉需满舟装载以维持气流与温度,Dummy 片填充舟两端与批次间空位。

机台调试与腔体老化

新刻蚀、沉积、注入腔体需数十至上百片老化腔壁、稳定射频阻抗与夹具。

温度曲线测绘

加装热电偶的 Dummy 片测绘炉舟与快速热处理腔的温度分布与过冲。

机械搬运认证

自动搬运系统、分选机与装载锁机器人用实物片验证对中、夹持与映射传感器。

氧化 Dummy 长寿命运行

氧化膜作为牺牲屏障,显著延长换片周期、降低单片使用成本。

氮化 Dummy 含氯工艺

频繁原位清洗、含氯吸气循环的炉管首选,详见产线配套供应。

能力介绍

  • 炉管填充:单台立式炉可连续使用数十至上百片 Dummy;
  • 表面选项灵活:研磨面成本最低,刻蚀面颗粒更少,SSP 可模拟发射率;
  • 热氧化膜五档:100nm / 200nm / 500nm / 1μm / 2μm 对应约 1–2 至 30–50 次以上循环;
  • 氮化膜:100 / 200nm Si₃N₄ 在含 HCl 气氛中可经受多达约 100 次循环;
  • 几何兼容:厚度与平 / 缺口按 SEMI 宽松公差,适配自动搬运设备;
  • 批量阶梯价格:支持框架协议按月交货,见定制加工总览。
机械级硅片提供物理占位与热质量

机械级硅片:提供物理占位与热质量

按循环次数选膜 · 批量供货

依据炉管工艺与换片频率选择裸片、氧化或氮化 Dummy;月用量越大单片价格越低,支持合并装运与随批装箱单,相关回收方案见定制再生方案。

参数规格

参数规格 / 可定制范围
晶圆类型Dummy / 机械级(非生产,成本最低)
生长方法CZ,可用晶棒尾 / 锥端改制
直径100mm、125mm、150mm、200mm、300mm
掺杂类型不限,不保证批次类型一致
电阻率不限 / 无规格,低成本采购
晶向〈100〉或〈111〉,视供应不挑选
参数规格 / 可定制范围
厚度按 SEMI M1–M13,宽公差(±20μm 或更大)
TTV≤ 10μm(200mm),≤ 15μm(300mm)
Bow / Warp≤ 50μm Bow,≤ 60μm Warp
表面处理研磨哑光 / 刻蚀 / 单面抛光(SSP)
热氧化膜100nm、200nm、500nm、1μm、2μm
氮化膜100nm、200nm(LPCVD)
包装散装花篮、多片包装或塑料运输盒
成本对比较同规格正片低约 70–90%

设备与工艺装备

设备类别典型配置用途
分选目检强光检查工位筛选边缘崩裂与明显污染
几何抽检测厚 / 尺寸量具确认 SEMI 宽松公差与搬运兼容
膜厚测量椭偏 / 反射式(镀膜片)多点膜厚图记录
清洗设备湿法清洗线(按需)出货前净化
包装工位散装花篮 / 多片包装成本优化包装
标识工位批次级标记(可选)装箱单批次追溯

实际案例

炉管填充

立式炉满舟配套

某厂扩散炉需满舟装载以维持气流与温场稳定,两端与批次间存在空位。

结果:按月批量供应 200mm 研磨面 Dummy 片填充空位,热工艺稳定性改善。

腔体老化

新沉积腔体调试

某线新装沉积腔体,需要大量片子老化腔壁、稳定等离子状态。

结果:提供 300mm 刻蚀面 Dummy 批量,避免消耗监控级材料。

长寿命 Dummy

含氯工艺炉管配套

某炉管频繁进行原位清洗与含氯吸气循环,普通片换片频繁。

结果:交付 200nm 氮化 Dummy,循环寿命显著提升、单片使用成本下降。

常见问题

Dummy 片和测试片有什么区别?
Dummy 片规格最宽松,只做占位与热质量,不要求电学一致性,成本最低(较正片低约 70–90%);测试片要求电学与机械一致性,用于能反映真实工艺的监控与认证。
氧化 Dummy 的膜厚怎么选?
按目标循环次数选择:100nm 约 1–2 次、500nm 约 8–12 次、1μm 约 15–25 次、2μm 约 30–50 次以上。
含氯气氛应该用哪种?
选择 100 / 200nm LPCVD 氮化 Dummy,耐含 HCl 气氛,可经受多达约 100 次热循环,适合频繁原位清洗的炉管。
表面处理有哪些选项?
研磨哑光面成本最低,适合填充;刻蚀面颗粒更少,适合腔体老化;单面抛光可模拟生产片发射率,用于快速热处理与外延调试。
是否支持批量协议?
支持 500 片以上阶梯价与按月框架交货,合并装运可进一步优化费用,具体以工程师报价为准。
有哪些直径可选?
直径覆盖 100 / 125 / 150 / 200 / 300mm 全系列,厚度与平 / 缺口按 SEMI 宽松公差,适配自动搬运设备。
几何公差是多少?
TTV ≤ 10μm(200mm)、≤ 15μm(300mm),Bow ≤ 50μm、Warp ≤ 60μm;厚度公差较宽(约 ±20μm 或更大),仅要求物理占位与力学兼容。
晶向和掺杂能指定吗?
Dummy 片只做占位与热学 / 力学存在,不保证电学一致性:掺杂类型与电阻率不限、无规格,晶向为〈100〉或〈111〉视供应不挑选。
Dummy 片主要用在哪些环节?
用于扩散 / LPCVD 炉管满舟填充与热均匀、新腔体调试与老化、炉膛温度曲线测绘以及自动搬运与分选设备的机械搬运认证。
可以做标记追溯吗?
可以。可选批次级标记,配合随批装箱单实现批次追溯,便于按炉管或产线归档管理。

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批量阶梯价,支持按月框架交货

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