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方形硅片

从毫米级小片到数英寸方板的单晶硅方片:尺寸与厚度可定制、边缘可磨边,用于科研、MEMS、工艺验证与面板级工艺开发。

产品介绍

方形硅片(Square Wafer)是按矩形或正方形轮廓加工的单晶硅片,区别于标准圆形晶圆。它在需要直角排布、固定外形或与特定载具、夹具匹配的场景中更具优势,也常用于不依赖圆形基准面的工艺研究。

可提供从数毫米的小方片到数英寸见方的方形硅板,厚度按需求定制,材料以 CZ 硅为主,也可按需选 FZ 高阻硅、氧化或氮化镀膜以及特定晶向;边缘可按切割态或磨边处理,降低崩边与颗粒。方形片广泛用于科研实验、MEMS 原型、光电 / 热电研究、工艺验证以及面板级工艺前期开发,每批按约定尺寸检验,相关加工见晶圆改尺寸。

核心特性

  • 正方形 / 矩形轮廓,尺寸支持定制;
  • 覆盖毫米级小方片到数英寸方板;
  • CZ 硅为主,可选 FZ 高阻、镀膜等;
  • 厚度按 SEMI 标准或定制;
  • 边缘可切割或磨边,减少崩边;
  • 可按图加工并随批做尺寸检验。
方形单晶硅片用于科研与工艺验证

方形硅片:直角轮廓、便于排布与匹配

应用场景

科研与教学

直角小片适合材料、器件实验与教学演示。

MEMS 原型

方形片与特定封装、载具匹配。

工艺验证

在不依赖圆形基准面时验证薄膜与刻蚀工艺。

光电器件研究

方形样品用于光电、热电性质表征。

面板级工艺开发

方形基板用于前期工艺摸索。

定制小批量器件

按图提供特定外形,详见科研与原型。

能力介绍

  • 尺寸定制:按图或规格切割方形 / 矩形片;
  • 材料可选:CZ / FZ 硅、各晶向与电阻率;
  • 表面处理:研磨、刻蚀或抛光;
  • 镀膜可选:热氧、氮化等;
  • 边缘处理:磨边可降低崩边与颗粒;
  • 小批量灵活交付,见图形定制。
按尺寸定制的方形硅板

方形硅板:按长宽厚定制加工

按图加工 · 尺寸可定制

从单片工程样品到小批量,按指定长宽厚与材料加工,边缘可磨边处理并随批做尺寸检验,详见定制加工总览。

参数规格

参数规格 / 可定制范围
轮廓正方形 / 矩形
尺寸范围毫米级小片至数英寸方板(可定制)
材料CZ 单晶硅(标准),可选 FZ
晶向〈100〉、〈111〉、〈110〉
电阻率按需求,含高阻选项
厚度SEMI 标准厚度或定制
参数规格 / 可定制范围
表面处理研磨、刻蚀、SSP / DSP
镀膜热氧、氮化等(可选)
边缘切割态或磨边
平 / 缺口按需求
公差按约定图纸
包装单片盒 / 专用载具

设备与工艺装备

设备类别典型配置用途
切割设备精密切割 / 激光切割按尺寸下料
磨边设备边缘研磨去毛刺、降低崩边
研磨抛光研磨机 / 抛光机表面处理
镀膜设备氧化炉 / CVD表面镀膜
量测卡尺 / 测厚 / 光学检查尺寸与外观检验
清洗湿法清洗出货前净化

常见问题

方形片和圆片有何不同?
方形片为直角轮廓,便于矩形排布与特定载具匹配;圆片是标准量产形态、设备兼容性最广。
能做到的尺寸范围?
从数毫米小方片到数英寸见方均可,按图加工。
能选高阻材料或镀膜吗?
材料可选 FZ 高阻硅,并可加热氧、氮化等膜。
边缘会崩边吗?
可做磨边处理去除毛刺,降低崩边与颗粒产生。
最小起订量?
支持单片定制与小批量,尺寸一致性随批检验。
方形片主要用什么材料?
以 CZ 单晶硅为主,可按需选 FZ 高阻硅,并指定晶向与电阻率;厚度按 SEMI 标准或来图定制。
表面可以做成什么样?
可提供研磨、刻蚀或抛光表面,也可按需加热氧化硅、氮化硅等膜层,满足不同实验与工艺验证需求。
方形片主要用于哪些场景?
科研与教学、MEMS 原型、工艺验证、光电 / 热电性质表征以及面板级工艺前期开发等,尤其适合不依赖圆形基准面的实验。
是按图加工的吗?交期如何?
按指定长宽厚、材料与边缘要求加工,边缘可磨边并随批做尺寸检验;单片工程样品到小批量均可灵活交付,交期与工程师确认。
尺寸不一致会影响使用吗?
方形片按图切割,每批按约定尺寸检验;对尺寸一致性要求高的场合建议在下单时注明公差,工程师会据此安排加工与检验。

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