特种材料衬底(Ge / AlN / 金刚石 / Ga₂O₃ / 石英 / LN / LT)
常规硅片之外的"硬骨头"材料:小尺寸、难加工、交期长的特殊衬底,我们按项目询价供应,一片也能定制。
产品介绍
当器件工作波长、功率密度、频率或温度超出硅的能力边界时,就要换材料:红外探测用锗、射频散热用氮化铝、极限功率器件押注氧化镓与金刚石。这些材料普遍尺寸小、脆性大、加工难,主流商城很少备货。我们与多家晶体生长与切磨抛产线长期合作,为科研与小批量项目提供定制供应。常见材料物性对照可参阅材料特性指南。
材料特性与典型用途对照表
| 材料 | 关键特性 | 常见尺寸 / 晶向 | 典型用途 |
|---|---|---|---|
| 锗 Ge | 红外透过(2–14 μm)、高载流子迁移率 | 2–6 英寸,<100> / <111> | 红外光学窗口、探测器衬底、聚光光伏 |
| 氮化铝 AlN | 高热导(~170 W/m·K 以上)、与 GaN 晶格匹配好 | 2 英寸为主,(0001) 面 | 深紫外 LED、GaN-on-AlN 射频、高散热基板 |
| 金刚石(单晶/多晶 CVD) | 最高热导率、超宽禁带 5.5 eV、高击穿场强 | 3×3 mm 至 10×10 mm 单晶;多晶可至 2 英寸 | GaN-on-Diamond 散热、量子色心、极限功率器件研究 |
| 氧化镓 Ga₂O₃(β相) | 禁带 4.8–4.9 eV,巴利加优值超 SiC/GaN | 2 英寸为主,(010) / (-201) | 下一代功率器件、日盲紫外探测器 |
| 熔融石英(Fused Silica) | 深紫外高透过、低热膨胀、低荧光 | 2–8 英寸,可定制方片/异形 | 微流控芯片、光学元件、掩膜基板、生物芯片 |
| 铌酸锂 LiNbO₃(LN) | 高压电/电光系数,声光性能优异 | 3 / 4 英寸,X/Y/Z 切、128°Y-X | SAW 滤波器、电光调制器、声光器件 |
| 钽酸锂 LiTaO₃(LT) | 热释电系数高、机电耦合适中 | 3 / 4 英寸,36°Y-X 等 | SAW 滤波器、热释电红外探测器 |
| 氧化铝陶瓷 Al₂O₃ | 高强度绝缘陶瓷,硬度 14–16 GPa、热导 20–30 W/m·K、CTE 3.2 ppm/K | 1–8 英寸 / 方片,96% 与 99.6% 纯度 | 厚膜混合电路、功率模块基板、高温传感器、射频基板 |
| 硼硅玻璃(Borosilicate) | 与硅 CTE 匹配(3.2 ppm/K),应变点 510℃,耐化学、透明 | 2–8 英寸 / 方片,可带图形腔体 | 阳极键合、MEMS 封装、微流控、生物 MEMS |
| 硒化锌 / 硫化锌 ZnSe / ZnS | 宽带红外透过(ZnSe 0.6–16 μm,ZnS 0.4–12 μm),高激光损伤阈值 | 抛光光学窗口与晶圆基板 | CO₂ 激光光学、红外热像窗口、红外光谱 |
| 柔性聚合物(PI / LCP) | 聚酰亚胺耐温至 400℃;LCP 低吸湿、低射频损耗 | 卷材 / 片材,厚度 12.5–125 μm | 柔性电路、可穿戴、天线基板、医疗传感贴片 |
特种材料经晶体生长、切磨抛与检测后交付
应用场景
能力介绍
特种衬底经切、磨、抛与检测后交付,随片附检测数据
稀缺材料寻源
特种材料多来自单一或少数货源,我们以人工寻源 + 加工配套的方式,为科研与小批量项目提供从材料选型到成品交付的闭环。
- 尺寸与厚度定制:0.1 – 1.0 mm 厚度范围,环形 / 方片 / 异形均可按图加工。
- 表面加工:单抛 / 双抛,Ra ≤ 0.5 nm(光学级 ≤ 0.2 nm),可选 Epi-ready 表面。
- 稀缺材料寻源:金刚石、Ga₂O₃ 等稀缺料由工程师人工寻源,报价以当期货源为准。
- 检测随附:尺寸 / 外观检验报告,光学级提供透过率数据,批量订单提供 CoC。
- 小批量友好:特种材料以科研需求为主,单片可订,按项目报价。
- 选型支持:散热优先选金刚石或 AlN;功率研究选 Ga₂O₃;光学与微流控选熔融石英;压电声学选 LN / LT。不确定时可查 材料特性指南。
按需定制询价流程
告知材料、尺寸、晶向、厚度、表面要求与数量;有图纸 / 论文参数直接附上,越具体报价越快。
24 小时内确认货源与加工可行性,给出含税报价、交期与检测项目(金刚石 / Ga₂O₃ 等稀缺料一般 2–3 个工作日)。
支持对公转账,开具 13% 增值税专票;科研单位可走合同与验收流程。
随片附检测数据与 CoC,到货 7 天内如有规格不符支持退换复检。
参数规格
供应规格参考
| 项目 | 典型能力 | 备注 |
|---|---|---|
| 厚度范围 | 0.1 – 1.0 mm(视材料) | 石英可定制 0.1 mm 薄片与数毫米厚片 |
| 表面 | 单抛 / 双抛,Ra ≤ 0.5 nm(光学级 ≤ 0.2 nm) | Epi-ready 表面可选 |
| 加工 | 切边、定向面(Flat/Notch)、打孔、异形切割 | 详见定制加工服务 |
| 检测随附 | 尺寸/外观检验报告;光学级提供透过率数据 | 批量订单提供 CoC |
| 包装 | 单片洁净盒 + 真空封装,脆性材料加缓冲 | 顺丰保价发货 |
锗(Ge)衬底详细规格
| 参数项 | 可供应范围 | 备注 |
|---|---|---|
| 直径 | 50 / 100 / 150 / 200 mm | 单晶锗,5N+ 纯度 |
| 导电类型 / 掺杂 | N 型(Sb)、P 型(Ga)、本征(未掺杂) | 可按需选择 |
| 电阻率 | N 型 0.01–40 Ω·cm;P 型 0.01–30 Ω·cm;本征 > 40 Ω·cm | Hall 测试 |
| 晶向 | (100) / (111) / (110),偏角 ±0.5° | XRD 验证 |
| 厚度 | 200 – 1000 μm(SEMI 标准厚度) | 按标准或定制 |
| 表面 | SSP / DSP / Epi-Ready,RMS < 2Å | 外延兼容表面 |
| 缺陷与几何 | EPD < 5×10³/cm²;TTV < 5 μm、Bow < 15 μm、Warp < 20 μm | 生长方式 CZ / VGF |
| 红外性能 | 透过 2–14 μm,折射率 n ≈ 4.0(4.003 @ 10.6 μm) | 未镀膜双面约 47%,AR 镀膜可 > 97% |
锗的禁带宽度 0.66 eV(间接)、电子迁移率 3900 cm²/V·s、热导 60 W/m·K,广泛用于红外光学(透镜/窗口)、多结 III-V 太阳能电池衬底、SiGe 高速电子与高纯锗(HPGe)伽马探测。
石墨烯薄膜(CVD)规格
| 参数项 | 可供应范围 | 备注 |
|---|---|---|
| 层数类型 | 单层(覆盖率 > 95%)、双层、少层(3–5 层)、还原氧化石墨烯 rGO | Raman 确认 |
| 衬底选项 | SiO₂/Si(90/285/300 nm 氧化层)、蓝宝石、石英、PET、PEN、铜箔(生长态) | 按器件工艺选 |
| 晶圆尺寸 | 最大 4 英寸(100 mm)、6 英寸(150 mm),可定制 | 转移工艺 |
| 方阻 | 200 – 600 Ω/sq(单层转移后) | 四探针测量 |
| 光学透过率 | > 97% @ 550 nm(单层) | 分光光度计 |
| Raman 指标 | I₂D/I_G > 2,2D 峰 FWHM 25–35 cm⁻¹ | 单层识别 |
| 迁移率 / 晶粒 | FET 迁移率 1000–5000 cm²/V·s(SiO₂/Si);晶粒 10–50 μm,优化可至 1 mm | 霍尔测试 |
| 表面粗糙度 | 转移后 RMS < 0.3 nm | PMMA 残留可控,可选退火清洁 |
透明导电材料对比(石墨烯 / ITO / 银纳米线)
| 参数 | 石墨烯(CVD 单层) | ITO(In₂O₃:Sn) | 银纳米线 |
|---|---|---|---|
| 方阻 | 200–600 Ω/sq | 10–50 Ω/sq | 10–100 Ω/sq |
| 透过率 @550 nm | > 97% | 85–92% | 85–92% |
| 柔性 | 优异(弯曲半径 < 1 mm) | 差(脆性,约 2% 应变开裂) | 较好(弯曲半径约 3 mm) |
| 化学稳定性 | 优异(耐酸碱、惰性) | 中等(酸敏感、In 析出) | 差(银氧化/硫化) |
| 工艺温度 | CVD ~1000℃;转移常温 | 溅射 200–400℃ | 溶液涂布,120–200℃ 退火 |
| 适用场景 | 柔性透明高频器件、2D 异质结 | 刚性触控、LCD、低成本 TCO | 柔性触控、EMI 屏蔽、加热膜 |
设备与工艺装备
| 设备类别 | 典型配置 | 用途 |
|---|---|---|
| 晶体生长炉 | CZ / VGF / PVT / KY 等生长方式 | 生长 Ge、AlN、SiC、蓝宝石等单晶或铸锭 |
| 线切割机 | 金刚线多线切割 | 晶锭切片与异形切割 |
| 滚圆 / 外圆磨床 | 直径整形与定位面加工 | 晶棒滚圆与定向面加工 |
| 研磨 / 抛光机 | 双面研磨 + 化学机械抛光(CMP) | 控制平整度与镜面表面 |
| 倒角机 | 边缘倒角处理 | 防崩边、降低颗粒 |
| 光学透过率 / 面型测试台 | 分光光度计、干涉仪 | 透过率、面型与外观检测 |
| XRD / Raman | 晶体取向与结构确认 | 晶向验证与层数识别 |
| 椭偏 / 台阶仪 | 膜厚与表面测量 | 表面与薄膜参数检测 |
实际案例
双面抛光锗窗口片
某光学器件项目需要 2 英寸双面抛光锗片做红外窗口,对透过率与面型要求较高。
双面抛光并配 AR 镀膜后透过率满足指标,检测数据随片交付
β-Ga₂O₃ 衬底寻源
某研究团队需要 2 英寸 β-Ga₂O₃ (010) 衬底做日盲紫外探测验证,属于稀缺材料。
工程师人工寻源并按晶向交付,随片附 XRD 验证数据
CVD 石墨烯薄膜打样
某课题组需要 4 英寸 CVD 单层石墨烯 / SiO₂ / Si 用于 2D 器件研究。
随批提供 Raman 与方阻数据,方阻指标满足研究要求
常见问题
这些材料一片两片也接单吗?
可以提供外延(如 GaN-on-AlN、Ga₂O₃ 外延)吗?
脆性材料运输破损怎么办?
如何确认买到的材料参数符合论文/器件要求?
锗(Ge)片有哪些类型、表面与晶向可选?
石墨烯薄膜能选哪些层数和衬底?
氧化铝和氮化铝陶瓷基板怎么选?
尺寸和厚度可以怎么定制?
表面加工能做到什么水平?
交期和售后如何?
把材料、尺寸与参数发给我们,24 小时内拿到报价
一片起订 · 稀缺材料工程师人工寻源 · 含税人民币报价
