测试片 / Dummy Wafer（挡片 · 假片 · 再生片）
测试片（Dummy Wafer）是一种用于设备调试、炉管填充、颗粒监控与工艺验证的非产品硅片，提供全新挡片、假片与高性价比再生片，规格 2–12 英寸、成本仅为正片的几分之一，含税报价一片起订。
产品介绍
测试片（Test Wafer）与 Dummy 片（挡片 / 假片）是产线设备调试、炉管填充、颗粒监控与工艺验证的降本之选。我们供应全新 Dummy 片、Test 测试片、再生片（Reclaim）及机械练习片，覆盖 2–12 英寸，成本仅为正片几分之一。
产品分类
| 类型 | 说明 | 典型用途 | 价格水平 |
|---|---|---|---|
| 全新 Dummy 片 | 按 Dummy 等级生产的新片，表面抛光，参数宽松 | 炉管填充、设备暖机、传送测试 | 约为正片 50–70% |
| Test 测试片 | 介于 Prime 与 Dummy 之间 | 工艺研发、设备工艺验证 | 约为正片 70–85% |
| 再生片（Reclaim） | 旧片经去膜、研磨、抛光再生，附颗粒与平整度检测 | 颗粒监控、设备日常监控、教学练习 | 约为正片 20–40% |
| 机械练习片 / 碎片 | 表面瑕疵或破损片 | 传片练习、清洗篮调试、外观教学 | 极低，按公斤或按片计价 |
常备规格
- 尺寸：2 / 3 / 4 / 5 / 6 / 8 / 12 英寸，8 与 12 英寸现货最充足；
- 晶向 <100> 为主，N/P 型常规掺杂；
- 单抛 / 双抛均有，再生片以单抛为主；
- 氧化 Dummy 片（SiO₂ 膜）与氮化 Dummy 片可定制。
选型建议
- 颗粒监控（Particle Monitor）：选再生片即可，关注随片的表面颗粒检测数据；
- 炉管挡片：选全新 Dummy 片，寿命更长、掉颗粒风险低；
- 工艺研发：选 Test 片，在成本与参数真实性之间取得平衡；
- 正式流片：请使用 Prime 正片。
测试片 / Dummy 片：全新片与再生片现货充足
能力介绍
- 晶圆再生：旧片回收、去膜、研磨、抛光再生，附颗粒与平整度检测，支持以旧换新；
- 检测与认证：颗粒计数、TTV、粗糙度与膜厚检测，随片出报告；
- 薄膜沉积：氧化 Dummy 片、氮化 Dummy 片定制；
- 减薄：Dummy 片厚度调整与批量整平。
产线长期配套可参考产线配套供应方案，完整能力见定制加工总览。
随片提供颗粒计数、TTV 与粗糙度检测数据
氧化 Dummy 片：膜厚与热循环寿命
光片（裸硅）Dummy 在氧化或反应性环境中使用 1–2 次后，表面会出现凹坑、粗糙与污染吸附，容易掉颗粒。给 Dummy 片加一层热氧化 SiO₂ 作牺牲屏障，可显著延长使用寿命，降低换片频率与综合成本。含氯工艺（如 HCl 清洗炉管）可选用 LPCVD 氮化硅（Si₃N₄）涂层，化学耐受性更好。
| 氧化膜厚 | 可用热循环次数 | 适用场景 |
|---|---|---|
| 100nm SiO₂ | 1–2 次 | 短时炉管 seasoning、一次性使用 |
| 200nm SiO₂ | 3–5 次 | 常规每周炉管填充轮换 |
| 500nm SiO₂ | 8–12 次 | 较长周期，降低换片频率 |
| 1μm SiO₂ | 15–25 次 | 长寿命 Dummy，按月更换 |
| 2μm SiO₂ | 30–50+ 次 | 最长寿命、单次成本最低 |
| 100 / 200nm Si₃N₄ | 约 100 次（含 HCl 环境） | 频繁原位清洗的炉管 |
参数规格
再生片 / 监控片检测指标
| 检测项 | 典型控制水平 | 说明 |
|---|---|---|
| 表面颗粒 | ≥ 0.3μm 颗粒按等级约定数量/片 | 随片颗粒计数报告 |
| 平整度 TTV | ≤ 5μm（再生单抛片） | 按再生等级约定 |
| 表面粗糙度 | Ra ≤ 1nm（抛光面） | 影响监控灵敏度 |
| 划伤 / 雾面 | 按等级目检分选 | 监控片允许轻微划伤 |
| 边缘崩边 | ≤ 约定范围 | 避免搬运掉屑污染 |
| 氧化膜厚（如适用） | 按订单指定（如 1000Å / 5000Å） | 氧化 Dummy 片支持定制 |
Test / Monitor 测试片规格参考
Test / Monitor 片在机械与电学一致性上保留必要控制，但放宽了颗粒、电阻率与平坦度的验收窗口，以换取 40–60% 的成本下降。适合设备验收、工艺监控与日常点检：
| 参数项 | 典型规格 | 说明 |
|---|---|---|
| 生长方式 / 尺寸 | CZ 硅，4 / 5 / 6 / 8 / 12 英寸 | 覆盖全部标准直径 |
| 导电类型 / 电阻率 | P / N 型，0.001 – 10,000 Ω·cm | 验收窗口较 Prime 更宽 |
| 晶向 | <100> / <111> / <110> | 按库存供应 |
| TTV | ≤ 5μm（200mm） | 保证设备搬运安全 |
| 表面粗糙度 | < 0.5 nm（1×1μm AFM） | 满足监控灵敏度 |
| 位错密度 EPD | < 100 /cm² | 保证刻蚀/沉积行为一致 |
| 颗粒（0.3μm） | ≤ 30 颗/片 | SPC 基线清晰 |
| 激光打标 | SEMI M12/M13 软打标，支持自定义编码 | 便于产线追溯 |
再生片循环性能对照
再生片随循环次数增加，累计去除量上升、平整度逐渐下降，应据此选择合适用途：
| 参数（200mm 示例） | 全新 Prime | 第 1 次再生 | 第 3 次再生 | 第 5 次再生 |
|---|---|---|---|---|
| 厚度 | 725 ± 15μm | 715 ± 15μm | 695 ± 20μm | 675 ± 25μm |
| TTV | < 2.0μm | < 2.5μm | < 3.5μm | < 5.0μm |
| 表面粗糙度 RMS | < 0.2nm | < 0.3nm | < 0.5nm | < 0.8nm |
| 金属污染 | < 5×10¹⁰ atoms/cm² | < 1×10¹¹ | < 5×10¹¹ | < 1×10¹² |
| 推荐用途 | 器件 / 产品片 | 非关键器件 | 监控 / 测试 | 挡片 / 机械片 |
设备与工艺装备
测试片与再生片的制备、检测主要设备类别与用途如下：
| 设备类别 | 典型配置 | 用途 |
|---|---|---|
| 去膜 / 清洗设备 | 湿法去膜槽 + RCA / 兆声波清洗线 | 去除旧片表面膜层与污染，为再生做准备 |
| 研磨 / 抛光机 | 双面研磨 + 化学机械抛光（CMP） | 去除旧表面并恢复平整度与表面质量 |
| 氧化 / 薄膜设备 | 热氧化炉、LPCVD 氮化炉 | 制备氧化 Dummy、氮化 Dummy 涂层片 |
| 厚度 / 整平设备 | 减薄机与批量整平 | 调整 Dummy 片厚度与一致性 |
| 打标设备 | 激光打标（软打标） | 刻写批号与追溯编码 |
| 检测设备 | 颗粒计数、TTV、粗糙度与膜厚量测 | 随片出具检测报告，支持 SPC 基线 |
实际案例
再生片循环降本方案
某产线设备日常监控用片量大，希望降低耗材成本并保持监控灵敏度。
结果：以再生片替代部分监控用片并建立以旧换新循环，随片提供颗粒与平整度数据，综合耗材成本明显下降。
氧化 Dummy 片延长寿命
某炉管工序频繁更换裸硅 Dummy，掉颗粒风险高且换片频繁。
结果：改用 500nm 氧化 Dummy 片后可用热循环提升至 8–12 次，换片频率与颗粒风险下降。
12 英寸 Test 片批量供货
某新设备验收需要大批量 12 英寸 Test 片做工艺监控与日常点检。
结果：以 12 英寸现货满足当月用量，并签年度框架锁定价格与交期，随片提供 SPC 基线数据。
常见问题
再生片的质量可靠吗？
批量采购有折扣吗？
可以回收我们用过的旧片吗？
Dummy 片和测试片（Test）到底怎么区分？
光片（裸硅）Dummy 用几次就该换？
12 英寸 Dummy 片常备吗？
再生片和全新 Dummy 片价格差多少？
氧化 Dummy 片能延长多少寿命？
Test 片的颗粒和电阻率控制水平如何？
再生片用多了会有什么变化？
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